Çinli girişim Langdao Silex, gelişmiş çip üretiminde kullanılan EUV litografisi için FlintNano LPP-OXXO adlı ışık kaynağı prototipini geliştirdi. Şirket, sistemin temel bileşenlerinin yaklaşık yüzde 90’ının yerli üretim olduğunu açıklarken, prototipin ticari üretim gereksinimlerinin gerisinde kaldığı belirtiliyor.
Prototipin EUV ışık çıkışı en az 15 watt
FlintNano LPP-OXXO, yüksek güçlü lazerlerle plazma oluşturarak ışık üreten lazer kaynaklı plazma (LPP) yöntemini kullanıyor. ASML’nin EUV litografi sistemlerinde de tercih edilen bu teknoloji, gelişmiş yarı iletkenlerin üretiminde kullanılan kısa dalga boylu ışığın elde edilmesini sağlıyor.
Langdao Silex’in verdiği bilgilere göre prototipte 1.000 watt çıkış gücüne sahip bir lazer bulunuyor. Lazerin tekrarlama frekansı 1.000 ile 20.000 Hz arasında değişiyor; enerji dönüşüm verimliliği yüzde 2’nin üzerinde, EUV ışık çıkış gücü ise en az 15 watt olarak açıklanıyor.
Ticari litografi sistemlerinin sürekli ve güvenilir biçimde birkaç yüz watt sağlayabilen EUV kaynaklarına ihtiyaç duyduğu ifade ediliyor. ASML, 2018’den bu yana seri üretimde 250 watt’lık EUV ışık kaynakları kullanıyor ve 1.000 watt seviyesine ulaşmak için çalışmalar yürütüyor.
Prototipin 100 saati aşan kesintisiz çalışma süresine ulaştığı bildiriliyor. Açıklanan diğer değerler; 60 mikrometre plazma boyutu, yüzde 3 RMS plazma kararlılığı ve yaklaşık yüzde 5 enerji kararlılığı. Şirket temsilcileri, sistemin silikon levhaların ışınlandığı testlere elverişli düzeye geldiğini belirtiyor.
Ticari üretim için 3 ila 5 yıl öngörülüyor
Langdao Silex, teknolojinin büyük ölçekli ticari üretime hazır hale gelmesi için 3 ila 5 yıllık bir süre öngörüyor. Ancak mevcut teknik güçlükler ve EUV litografisinin karmaşıklığı nedeniyle bu takvimin iyimser olabileceği değerlendiriliyor.
Çin’in yerli EUV litografi makineleri geliştirme çalışmaları daha önce de gündeme gelmişti. Işık kaynağının geliştirilmesi tek başına ticari bir sistem kurmaya yetmiyor: Ultra hassas optik parçalar, yüksek doğrulukla çalışan silikon levha taşıma mekanizmaları ve çok sayıda alt sistemi bir arada çalıştıracak entegrasyon teknolojileri de gerekiyor.
EUV ışık kaynağı, ASML ile rekabet için yeterli değil
ASML’nin makineleri yüz binlerce bileşenden oluşuyor ve 800’den fazla iş ortağının katkısıyla geliştiriliyor. Bu nedenle Çin’in yerli bir ışık kaynağı ortaya koyması önemli bir adım olsa da şirketin uçtan uca litografi çözümlerinin yerini almak için daha geniş bir teknolojik altyapı gerekiyor.
Çin’in mevcut DUV litografi ekipmanlarında da ASML ile rekabet etmekte zorlanması, sürecin kapsamını ortaya koyuyor. Bazı değerlendirmelere göre, koşullar elverişli olsa bile ticari kullanıma uygun yerli EUV sistemlerinin geliştirilmesi 8 ila 10 yıl sürebilir.
